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M系列光束筆尖陣列光刻系統(tǒng):聚合物筆無(wú)掩模光刻納米制造系統(tǒng)(polymer pen lithography)聚合物筆納米無(wú)掩模光刻制造系統(tǒng)PPL, 使用可達(dá)160000筆尖的陣列,采用蘸筆光刻DPN的方式,將待沉積的材料(墨水)浸蘸在筆尖陣列上,筆尖可控的與基底表面接觸,從而在基底表面批量成型所需圖案,加工納米微米圖案無(wú)需光掩膜,且在平方厘米范圍內(nèi)達(dá)到200納米以下的分辨率。
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